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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]化学气相沉积设备-CN201811258690.5在审
发明人：叶致宏;李宗霖;林艺民;杨胜钧;曾同庆 -专利权人：台湾积体电路制造股份有限公司
申请日： 2018-10-26 - 公布日： 2019-05-17 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：提供一种化学气相沉积设备，化学气相沉积设备包括化学气相沉积腔室，上述化学气相沉积腔室包括多个壁部分，基座设置于化学气相沉积腔室内，配置以支撑基板，进气口设置于壁部分的其中的一个上，且位于基座的基板支撑部分下方除此之外，气流引导构件设置于化学气相沉积腔室内，耦接至进气口，并配置以将来自进气口的清洁气体分配至化学气相沉积腔室。
化学气相沉积腔进气口化学气相沉积设备气流引导构件室内基板支撑清洁气体支撑基板个壁耦接配置分配

[实用新型]化学气相沉积设备-CN201120553436.5有效
发明人：李一成;汪宇澄 -专利权人：理想能源设备（上海）有限公司
申请日： 2011-12-27 - 公布日： 2012-10-24 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种化学气相沉积设备，包含化学气相沉积反应腔以及气体传输装置；所述气体传输装置包含反应气源；在所述反应气源与所述化学气相沉积反应腔之间设置定量供气装置，该定量供气装置每次向化学气相沉积反应腔中输送定量的反应气体本实用新型可精确控制进入各个反应腔内的反应气体量，提高薄膜太阳能电池的沉积质量，并且有效降低化学气相沉积设备的成本。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201410851813.1在审
发明人：李金明 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2014-12-31 - 公布日： 2015-04-15 - 主分类号： C23C16/46 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相沉积设备，包括：反应腔体(100)、设于所述反应腔体(100)内的加热平台(200)、设于所述加热平台(200)下方的加热平台支撑座(301)、设于所述加热平台支撑座(301)下方的加热平台支撑杆该化学气相沉积设备的加热平台可单独拆卸，便于化学气相沉积设备维护及清洗整形。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201710060239.1在审
发明人：白晓航;汪伟;刘兆平 -专利权人：中国科学院宁波材料技术与工程研究所
申请日： 2017-01-24 - 公布日： 2017-05-31 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括基底存放腔室、样品收集腔室、反应腔室、过渡腔室及将基底料带由基底存放腔室运送至样品收集腔室的物料输送装置，基底存放腔室、样品收集腔室、反应腔室和过渡腔室形成密闭的输料通道本申请提供的化学气相沉积设备有效地抑制相邻反应腔之间的反应气体的扩散，使得各个反应腔室能够独立的实现预定的功能。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201710661461.7在审
发明人：仰卫 -专利权人：武汉华星光电技术有限公司
申请日： 2017-08-04 - 公布日： 2017-12-05 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明公开了一种化学气相沉积设备，包括反应腔室、衬底支撑座和气体喷淋头，所述衬底支撑座用于支撑待沉积薄膜的衬底基板，所述气体喷淋头用于向所述反应腔室内输入反应气体，其中，所述衬底支撑座连接有遮蔽框架，所述遮蔽框架包括相互连接的第一连接部和第二连接部所述化学气相沉积设备，用于对衬底基板进行定位的遮蔽框架，完全没有覆盖衬底基板的表面，由此，衬底基板可以整面沉膜，提高衬底基板的利用率。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201811055932.0在审
发明人：丁欣 -专利权人：上海引万光电科技有限公司
申请日： 2018-09-11 - 公布日： 2020-03-17 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相沉积设备。该设备包括反应腔，反应腔内包括多个用于承载衬底的基座，多个基座为圆盘形，工艺气体通过管路进入反应腔，多个基座中的每个基座彼此之间并列排布，各个基座的圆心在同一直线上；各个基座承载衬底的上表面彼此相互平行或在同一平面上
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN202210522180.4在审
发明人：朴钟勋;郑石源;朱儇佑;崔宰赫;闵庚柱;朴元雄 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2018-06-22 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： C23C16/22 文献下载
摘要：提供了一种化学气相沉积设备。所述化学气相沉积设备包括：室；基座，设置在室中，并支撑具有有机发光二极管的基底；背板，设置在基座上方，并与基座分隔开预定距离；以及扩散器，设置在背板与基座之间，并将沉积气体提供到基底。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN200810178419.0有效
发明人：张祥来;李相琝 -专利权人： SFA股份有限公司
申请日： 2008-11-26 - 公布日： 2009-12-02 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：本发明是一种化学气相沉积设备，包括一传输模块腔室，连接一装载室与一制程模块腔室，且具有形成在底部中心区域的一自控装置设置孔；一支撑框架，支撑传输模块腔室的下表面；一基板处理自控装置，具有以将基板处理自控装置插入在自控装置设置孔内的状态而设置在传输模块腔室的一上部件
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN200810176342.3有效
发明人：金昶成;刘相德;洪钟波;沈智慧;李元申 -专利权人：三星电机株式会社
申请日： 2008-11-20 - 公布日： 2009-07-01 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相沉积设备。所述设备包括反应室、气体引入单元和气体排出单元。气体室包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片。因此，即使当增加工艺压力以生长高温沉积层时，室内的气体强度也可保持在基本均匀的状态。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201110220757.8有效
发明人：金昶成;刘相德;洪钟波;沈智慧;李元申 -专利权人：三星LED株式会社
申请日： 2008-11-20 - 公布日： 2011-11-02 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明提供一种化学气相沉积设备。所述设备包括反应室、气体引入单元和气体排出单元。气体室包括基座和反应炉，在基座上装载晶片，在反应炉中用化学气相沉积处理晶片。因此，即使当增加工艺压力以生长高温沉积层时，室内的气体强度也可保持在基本均匀的状态。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201611188878.8有效
发明人：左敏 -专利权人：江苏微导纳米装备科技有限公司
申请日： 2016-12-21 - 公布日： 2019-02-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：本发明公开的化学气相沉积设备包括进气装置，所述进气装置包括：第一反应气体出气口，其用于向所述待处理衬底输送第一反应气体，和第二反应气体出气口用于向所述待处理衬底输送第二反应气体；隔离装置分布在第一反应气体出气口周围，隔离装置使得第一反应气体与第二反应气体的混合反应在空间上实现局域化；两种气体出气口与分布在第一反应气体出气口周围的隔离装置一起组成最小周期结构单元，本设备包括一个周期结构单元或一个以上周期结构单元；驱动装置，其用于驱动所述待处理衬底或者驱动进气装置。本发明通过隔离装置设计将两种反应气体的混合反应在空间上实现局域化，通过进气装置与衬底载具之间的相对运动，对衬底进行沉积处理。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN02107463.1有效
发明人：金宰湖;朴相俊 -专利权人：株式会社APEX
申请日： 2002-03-19 - 公布日： 2002-10-23 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明涉及化学气相沉积设备。在该化学气相沉积设备中,可与外部RF电源302相连的RF电源连接部分303安装在腔室300的上部;RF电极板306安装在所述腔室内,所述RF电极板以预定的间隔与所述腔室的内上表面隔开并且以预定的间隔与设置在所述
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN200610074522.1有效
发明人：金宰湖;朴相俊 -专利权人：株式会社IPS
申请日： 2002-03-19 - 公布日： 2006-10-18 - 主分类号： C23C16/513 文献下载
摘要：本发明涉及化学气相沉积设备。在该化学气相沉积设备中，可与外部RF电源(302)相连的RF电源连接部分(303)安装在腔室(300)的上部；RF电极板(306)安装在所述腔室内，所述RF电极板以预定的间隔与所述腔室的内上表面隔开并且以预定的间隔与设置在所述
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN201711306785.5有效
发明人：米野純次;須田昇;大石隆宏;黄灿华;薛士雍 -专利权人：汉民科技股份有限公司
申请日： 2017-12-11 - 公布日： 2020-11-06 - 主分类号： H01L21/205 文献下载
摘要：一种化学气相沉积设备包含一压载气体源以及一质量流量控制器，其中压载气体源设置于一分离装置的上游侧，并经由控制压载气体的流速来控制一反应腔室中的压力。
化学沉积设备

[发明专利]化学气相沉积设备-CN202110874025.4有效
发明人：张保龙 -专利权人：长鑫存储技术有限公司
申请日： 2021-07-30 - 公布日： 2023-06-23 - 主分类号： C23C16/54 文献下载
摘要：本公开提供了一种化学气相沉积设备，属于半导体技术领域。该化学气相沉积设备包括反应腔体、供气组件、气体分配盘、气体控制组件。其中，反应腔体具有多个用于承载晶圆的承载台。供气组件，用于提供反应气体。这样能够通过气体控制组件调节反应气体的流量或者通气时间，以控制对应的气体分配盘的气体流量或者通气时间，减小在不同晶圆表面沉积薄膜膜厚的差异，从而可以提高在晶圆上所沉积薄膜的质量，进而降低成本。
化学沉积设备

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